前言第1章 光学薄膜原理 1．1 薄膜干涉 1．1．1 光的波动性 1．1．2 薄膜干涉 1．1．3 驻波干涉 1．1．4 偏振效应 1．2 光学薄膜系统的特性计算 1．2．1 矢量作图法 1．2．2 递推法 1．2．3 矩阵法 本章小结 思考与练习题第2章 常用光学薄膜 2．1 增透膜 2．1．1 单层增透膜 2．1．2 双层增透膜 2．1．3 三层增透膜 2．2 反射膜 2．2．1 金属反射膜 2．2．2 介质高反膜 2．3 分光膜 2．3．1 金属分光镜 2．3．2 介质分光镜 2．4 干涉截止滤光膜 2．4．1 截止带特性 2．4．2 通带特性 2．4．3 截止滤光片倾斜使用时的偏振效应 2．4．4 利用金属薄膜的宽带截止滤光片 2．5 带通滤光片 2．5．1 法布里一珀珞滤光片 2．5．2 全介质法布里一珀珞滤光片 2．5．3 多半波滤光片 2．5．4 诱导透射滤光片 本章小结 思考与练习题第3章 真空镀膜技术 3．1 真空知识 3．1．1 真空基础知识 3．1．2 真空泵 3．1．3 真空管道与阀门 3．1．4 真空材料 3．1．5 真空密封 3．1．6 真空的测量 3．2 真空镀膜装置 3．2．1 真空镀膜机的构成 3．2．2 真空镀膜机的安装与调试 3．2．3 真空镀膜机的操作步骤 3．2．4 真空系统的检漏 3．3 真空镀膜方法 3．3．1 电阻热蒸镀法 3．3．2 电子束加热蒸发 3．3．3 激光蒸发 3．3．4 反应蒸发 3．3．5 溅射 3．3．6 离子镀 3．3．7 离子辅助镀 3．3．8 分子束外延 本章小结 思考与练习题第4章 膜层厚度监控方法 4．1 目视法 4．2 光学监控法 4．2．1 极值法 4．2．2 波长调制法 4．2．3 宽光谱扫描 4．3 石英晶体控制法 4．4 膜层厚度均匀性 4．4．1 膜厚的理论分布 4．4．2 改善均匀性的措施 本章小结 思考与练习题第5章 光学薄膜制备工艺因素 5．1 制备工艺因素分析 5．1．1 基板处理 5．1．2 制备参数 5．1．3 蒸汽入射角 5．1．4 老化处理 5．2 工艺因素优选 本章小结 思考与练习题第6章 真空镀膜材料 6．1 金属薄膜 6．1．1 铝(Al) 6．1．2 银(Ag) 6．1．3 金(Au) 6．1．4 铬(Cr) 6．2 介质和半导体薄膜 6．2．1 对材料的基本要求 6．2．2 几种常用薄膜的性质 6．3 红外与紫外薄膜 6．3．1 红外薄膜材料 6．3．2 紫外薄膜材料 6．4 有机薄膜与任意折射率薄膜 6．4．1 有机薄膜 6．4．2 任意折射率薄膜 本章小结 思考与练习题第7章 薄膜的结构特性 7．1 薄膜的形成 7．1．1 表面吸附 7．1．2 成核过程 7．1．3 膜的生长 7．2 薄膜的微观结构 7．2．1 基本的微观结构特性 7．2．2薄膜生长的计算机模拟 7．2．3 薄膜的晶体结构 7．2．4 微观结构的观测 7．3 薄膜的成分 7．4 薄膜微观结构和成分对膜层性质的影响 7．4．1 光学不稳定性 7．4．2 光学损耗 7．4．3 折射率非均匀性 7．4．4 抗激光损伤 7．5 改善结构的途径 本章小结 思考与练习题第8章 光学薄膜检测 8．1 薄膜的光学性质及测量 8．1．1 光谱特性 8．1．2 光学常数 8．2 薄膜的力学性质及其检测 8．2．1 薄膜的附着力和硬度 8．2．2 薄膜的应力 本章小结 思考与练习题参考文献